logo

جزئیات محصولات

Created with Pixso. خونه Created with Pixso. محصولات Created with Pixso.
هدف تیتانیوم
Created with Pixso.

تیتانیوم با خلوص بالا برای هدف اسپاترینگ ASTM B348

تیتانیوم با خلوص بالا برای هدف اسپاترینگ ASTM B348

نام تجاری: LHTI
شماره مدل: LH-10
مقدار تولیدی: 10 عدد
قیمت: US dollar $ 25.5/pc--US dollar $125/pc
شرایط پرداخت: L/C، D/P، T/T، وسترن یونیون، پی پال و غیره
توانایی عرضه: 5000 عدد در هفته
اطلاعات دقیق
محل منبع:
چین
گواهی:
ISO9001
نام محصول:
اهداف کندوپاش تیتانیوم با خلوص بالا برای دستگاه پوشش خلاء PVD
مواد:
تیتانیوم خالص، آلیاژ تیتانیوم
برنامه:
صنعت پوشش، صنعت پوشش خلاء کندوپاش
کلمه کلیدی:
هدف کندوپاش تیتانیوم
بسته:
مورد تخته سه لا یا با توجه به نیاز شما
جزئیات بسته بندی:
بسته بندی پنبه مروارید یا بسته بندی مهر و موم شده، خارج از جعبه کارتن استاندارد یا جعبه تخته سه لا ا
قابلیت ارائه:
5000 عدد در هفته
برجسته کردن:

اهداف کندوپاش تیتانیوم با خلوص بالا

,

دستگاه پوشش خلاء PVD هدف تیتانیوم

,

اهداف کندوپاش تیتانیوم خالص

توضیحات محصول

هدف اسپتر کردن تیتانیوم با خلوص بالا ASTM B348

این هدف اسپتر کردن تیتانیوم با خلوص بالا از تیتانیوم درجه 1، درجه 2، درجه 5، درجه 7 و درجه 12 با محتوای تیتانیوم حداقل 99.5٪ و محتوای ناخالصی کمتر از 0.04٪ تولید می شود.اهداف ساخته شده و CNC ماشینکاری به ASTM B348 و ASTM B381 با چگالی 4.51 یا 4.50 g/cm3 و هدف های آلیاژ مانند Ti-Al، Ti-Cr و Ti-Zr و همچنین کروم، زرکونیوم، مس و وولفستم نیز می توانند عرضه شوند.

مشخصات فنی

نوع محصول هدف اسپتر کردن تيتانيوم
مواد تیتانیوم خالص و آلیاژ تیتانیوم (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7, Gr12)
محتوای تیتانیوم 99.5٪ دقیقه
محتوای ناخالصی کمتر از 0.04%
تراکم 4.51 یا 4.50 گرم در سانتی متر
استاندارد ASTM B348، ASTM B381
تکنیک جفتکاری و ماشینکاری CNC
درخواست جداسازی نیمه هادی، پوشش فیلم، پوشش الکترود ذخیره سازی، پوشش اسپتر، پوشش سطحی، پوشش شیشه ای

شکل ها و اندازه های هدف موجود

شکل هدف محدوده اندازه ضخامت
هدف گرد قطر 30 - 2000mm 3.0mm - 300mm
هدف صفحه طول 200 تا 500 میلی متر، عرض 100 تا 230 میلی متر 3mm - 40mm
هدف لوله قطر 30 - 200mm، طول 500 - 2000mm 5mm - 20mm
سفارشی در صورت درخواست در دسترس در صورت درخواست

کاربردها و مزایای تیتانیوم

هدف های تیتانیوم در جداسازی نیمه هادی، پوشش فیلم، پوشش الکترود ذخیره سازی، پوشش اسپتر، پوشش سطح و صنعت پوشش شیشه استفاده می شود.خلوص به شدت بر عملکرد فیلم اسپتر شده تاثیر می گذارد، زیرا خلوص بالاتر باعث مقاومت بهتر در برابر خوردگی و خواص الکتریکی و نوری بهتر می شود. ناخالصی ها در هدف جامد، همراه با اکسیژن و بخار آب در منافذ،منابع اصلی آلودگی فیلم هستند.، و تراکم هم بر سرعت اسپوتینگ و هم بر کیفیت الکتریکی و نوری فیلم تأثیر می گذارد.یک ساختار دانه نازک و به طور یکنواخت توزیع شده سریعتر اسپوت می شود و ضخامت فیلم یکنواخت تری را تولید می کند.

کیفیت، سفارشی سازی و تحقیق

Targets are forged and CNC machined under ISO9001 quality control and packed in vacuum plastic bags with foam and pearl cotton inside a fumigation-free plywood case to meet international transport standardsشکل، اندازه، درجه و مقدار می تواند سفارشی شود، ظرفیت ماهانه به 5000 قطعه می رسد و تحویل به طور معمول 15-20 روز طول می کشد. لطفا شکل هدف، ابعاد،نیاز به خلوص و مقدار به طوری که ما می توانیم یک نقل قول آماده.

Titanium sputtering targetTitanium sputtering targetTitanium sputtering targetTitanium sputtering targetTitanium sputtering targetTitanium sputtering targetTitanium sputtering targetTitanium sputtering target

محصولات مرتبط